半导体高端封测废水怎么处理方法|半导体高端封测废水处理案例
半导中档首测配置涉重废液——MVR强制性要求巡环零排投资项目
业务后台
半导体材料器件一个公测活动,规模化150万立方/天,是首家半导体材料器件公测模块化涉重废气零排活动。公测过程的镀镍、镀铜、引线结构框架冲洗会生成含镍含铜废气,工业园区符合要求"无尾水外排",产水都回收于产线。
水源本质特征与重点难点
化工废水以含镍相结合(质量浓度10–100毫克/升),伴微量分析铜、锌,pH冲击大(2–12),另外 光刻胶残渣的少量的卤素元素物。首测厂地方紧,特殊要求加工处理基础设施占地面小;零排一味着浓水不会土石方多,须得当地挥发晶体反馈控制。
治理 加工过程交通路线
整体结构走"分质汇集 → 预补救除杂 → 无机化学水解除镍 → 活性炭过滤 → UF+有级RO → MVR强迫不断循环化掉 → 空气冷却水造纸废水处理":
含镍线先调pH到10–11,污泥脱水氢钝化钠生产Ni(OH)₂积淀,加个混炼钠长度气体吸附残留物镍(混炼镍Ksp比氢钝化镍更小,也能镍压到0.1毫克/升以下的);
沉淀自己满水后经多材质滤出+保安人员滤出后进UF,再进1阶段RO,产水直观回产线难以清理;
RO浓水(含盐+残余物天价属)进MVR立即性要求再巡环挥发器,立即性要求再巡环能扛高含盐结渣,挥发器附带上线洗掉,更易堵;
MVR蒸汽加热水来到工业废水处理蓄水池,蒸发器残液委外焚化或用于危废处理加工,整体的生产区无等离子态外排。
要素的设备独到之处表明
MVR直接无限反复相对于过去的降膜挥发,无限反复空气流速高、换热面后易结镍盐/碳酸盐垢,适于首测各种"的水量不太大但水的硬度杂"的环境;三合一化撬装结构设计土地征用比过去的挥发塘+多效挥发方案怎么写小60%之上;恶臭侧配备怪物滤池,把调整池和生活污水间的恶臭回收后生物降解成CO₂和水,以免首测厂挨着办公室区的特殊难闻气味投诉举报。
工作效用与社会效益
出水出水镍≤0.1毫克/升、铜≤0.1毫克/升,更为重要《电镀锌环保标准问题物排出标淮》表三;都150立米米/天产水使用于首测产线家电清洗,换用等量最新水;危险废物(蒸馏残液+废水)量比傳統"析出+排出"机制减约70%。对富士康侧,首测该项目环保标准运营卡点打架通;