苏州某半导体器件基带芯片手工制作加工厂，晶圆制作加工时候中行成含硅、氟的特色生活污水，构思正确工作规模较1200吨/日。生活污水成份非常复杂，具有刺激性納米级硅颗粒剂及氢氧化钠，传统化正确工作做法未能达到。 工业废水组成成分及由来 基本环境有害物质 ：溶液硅（100-500nm粒度分布）、氟铁离子（200-300mg/L）、异丙醇 来历制作工艺 ：晶圆刻蚀污废水处理方法 （45%）、CMP化工机械性增加光泽污废水处理方法 （40%）、设配擦拭水（15%） 处里生产技术步骤流程 科学创新利用"催化奠定+特殊工种膜分离法"技术水平路线规划： 钙盐水解 ：污泥脱水氯化钙清掉氟阴阳离子（转成CaF2石雕文化沉淀） 二沉池现象 ：复合型水解酸化池剂体现电解质溶液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm钻孔大小膜截流微细小粒 反加入设计 ：脱盐率>98%，回报率75% 多效蒸发晶粒 ：浓水段满足氟化物零废气 从而郊果 氟化物渗透压：<8mg/L（远低于政府三级标10mg/L） 硅含量的：<5mg/L 水土资源性造纸废水处理率：70%用来封闭式冷却塔塔保湿补水 危险废物减轻：蒸馏渣子量较经典技术才能减少60%