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硅片清洗废水处理案例|硅片清洗废水处理方法

该厂为85英寸晶圆生产加工线模块化的超净水体系,日常制造含硅电镀废水150吨。电镀废水里虽无巨资属,但硅成分高易积灰,且内阻率需实现18MΩ·cm才能够回收。原本的处工院艺不可充分满足新废止的《电子器件工業水被工业废气排污准则准则》(GB39731-2020)有点排污准则最大限度。 焦化废水含量特性 首要影响物 :溶液硅(200-300mg/L)、颗粒剂硅(比表面积0.1-1μm) 独特必须 :TOC<10μg/L,硼份量<5μg/L 水质监测因素 :低导电率(<50μS/cm)但硅类化合物特性麻烦 操作鑫霖环保程序流程 转型升级通过"梯级膜分离法+电去亚铁离子"团体加工过程: 微滤预办理 :1μm陶瓷图片膜屏蔽短信大颗粒物硅,通量长期保持80LMH 亚铁离子互相交换树脂材料 :D201大孔环氧树脂会暂时性过滤硅酸原子核 特殊RO平台 :第1 段回收并率60%,第二名段按照高脱硼膜零件 EDI电去化合物 :电流值硬度2A/m²,保持取除残留阴离子 UV紫外线臭氧消毒 :254nm红外光谱线服用量40mJ/cm² 工艺新亮点 联合开发多功能阻硅剂(设计胺类黏结物),减缓膜环境破坏的周期3倍 EDI版块创新技术流道构思,硅彻底清除率大幅提升至99.8% 优酷云硅分折仪(测定标准0.1-500μg/L)把控精细把控 启用成果 经然后方的检测: 总硅从280mg/L降落到0.05mg/L 硼含铁从8μg/L减至0.3μg/L 装置回收分类处理率从原40%完善至68% 膜更改时间延迟至5年,年操作利润降35%

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