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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆研制厂设在华中东北部,主耍出产8寸大半导体行业晶圆,单日生活污水污染物量约800吨。在出产步骤中施用一大批盐酸采取晶圆蚀刻,引发生活污自来水中氟化物氧化还原电位高达hg200-300mg/L,远超政府污染物规定(10mg/L下述)。 电镀废水化学成分及因素 废渣基本出于二个节点: 晶圆蚀刻制作工序 :含高氧化还原电位氟化物(HF)、硝酸银及一些血本属 物理化学机制cnc精密机械加工(CMP)废水处理 :含微米级硅颗粒物、无机络合剂 专用设备清洁工作电镀废水 :含异丙醇、氯离子等无机物 进行处理的工艺具体步骤 使用"电化学石雕文化沉积+沥青混凝土石雕文化沉积+深浅净化"三类加工处理模式: 考试内容一级治理 :加药系统氯化钙和氢脱色钙,造成氟化钙沉定,氟化物去掉率达85% 二次加工处理 :“添加PAC(缩聚氯化铝)和PAM(聚丙稀酰胺),清掉固体态废弃物物 三级分销清理 :顺利通过多物质灵活性炭吸附剂过滤板和灵活性炭吸附剂吸附剂,留水氟化物氨水浓度不稳在8mg/L下列 要点设施设备包涵:pH定时缓解机系统、斜管奠定池、板框带式压滤机(淤泥脱水现象)。 结果是郊果 投资项目运转六年监控统计数据凸显: 氟化物月均质量浓度:7.2mg/L(超过的国家的标准) COD清除率:92% 厌氧颗粒污泥含水量率:≤65% 年回收并氟化钙副设备约150吨,构建资源共享化凭借

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